特許
J-GLOBAL ID：200903052524622390
ケイ素微粒子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-304751
公開番号（公開出願番号）：特開2007-112656
出願日： 2005年10月19日
公開日（公表日）： 2007年05月10日
要約：
【課題】 簡易なケイ素微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 (イ)不活性雰囲気下においてケイ素源と炭素源を含む混合物を加熱焼成する工程と、(ロ)上記不活性雰囲気から生成ガスを抜き出し急冷固化してケイ素微粒子を含む混合粉体を得る工程と、(ハ)上記混合粉体からケイ素微粒子を抽出する工程と、を備えることを特徴とするケイ素微粒子の製造方法。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
不活性雰囲気下においてケイ素源と炭素源を含む混合物を加熱焼成する工程と、
前記不活性雰囲気から生成ガスを抜き出し急冷固化してケイ素微粒子を含む混合粉体を得る工程と、
前記混合粉体からケイ素微粒子を抽出する工程と、
を備えることを特徴とするケイ素微粒子の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
4G072AA01
, 4G072BB05
, 4G072BB20
, 4G072GG01
, 4G072HH29
, 4G072JJ47
, 4G072LL03
, 4G072MM04
, 4G072MM36
, 4G072MM40
, 4G072RR01
, 4G072RR11
, 4G072RR13
, 4G072UU30
