特許
J-GLOBAL ID:200903052767109917
添加剤供給装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田中 大輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-205073
公開番号(公開出願番号):特開2001-032081
出願日: 1999年07月19日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】【課題】 めっき液に加える添加剤を薬液として供給する場合、気体を巻き込みやすい薬液であっても、精確な液量の供給ができる添加剤供給装置の提供を目的とする。【解決手段】 めっき液12に加える添加剤を含有した薬液2を貯留する薬液タンク3と、めっき液12に該薬液2を供給する定量ポンプ6とを備える添加剤供給装置1において、薬液タンク3と定量ポンプ6の間にバッファタンク5を設け、バッファタンク5内に薬液2を滞留させ薬液2中に巻き込まれた気体11を除去した後に、定量ポンプ6で薬液2をめっき液12に供給するものとした。
請求項(抜粋):
めっき液に加える添加剤を含有した薬液を貯留する薬液タンクと、めっき液に該薬液を供給する定量ポンプとを備える添加剤供給装置において、薬液タンクと定量ポンプの間にバッファタンクを設け、当該バッファタンク内に薬液を滞留させ薬液中に巻き込まれた気体を除去した後に、定量ポンプで薬液をめっき液に供給することを特徴とする添加剤供給装置。
IPC (4件):
C23C 18/16
, C23C 18/31
, C25D 21/14
, F17D 3/00
FI (4件):
C23C 18/16 C
, C23C 18/31 E
, C25D 21/14 A
, F17D 3/00
Fターム (8件):
3J071AA11
, 3J071BB02
, 3J071BB14
, 3J071DD22
, 3J071DD26
, 4K022DA01
, 4K022DB20
, 4K022DB27
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平4-197434
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薬液供給装置及び薬液の脱気方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-252260
出願人:大日本インキ化学工業株式会社
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薬液供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-168264
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特開平3-001341
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薬液供給システムおよび基板処理システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-286467
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特開平4-197434
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特開平3-001341
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液体循環処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-253029
出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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特開昭61-198723
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