特許
J-GLOBAL ID：200903053002928053

フォトマスク及びその製造方法

発明者：
竹田 和浩

竹田 和浩 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-307056
公開番号（公開出願番号）：特開平9-146257
出願日： 1995年11月27日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】 ウェハ上ショット面内の寸法ばらつきを低減できるフォトマスクを提供すること。【解決手段】 石英基板上に金属薄膜等からなる回路パターンを有する縮小投影露光装置用のフォトマスクにおいて、露光光が透過するパターン部分のサイズに応じた露光光透過率を示す半透明膜をフォトマスクパターン面上の該露光光透過部に形成する。これにより、光透過部を透過する露光光の光量が調節され、ウェハ上に到達するパターンの光量を揃えられるので、マスク製造時に生じたマスク面内のパターン寸法のばらつきに起因するウェハ上ショット面内の寸法ばらつきを低減できる。
請求項（抜粋）：
フォトマスク基板上の一面に透光パターンと遮光パターンとを備える回路パターンを有する縮小投影露光装置用のフォトマスクにおいて、前記透光パターンのサイズに応じた露光光透過率を示す半透明膜が前記透光パターン上に形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 B ,  G03F 1/08 Z ,  H01L 21/30 502 P
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM