特許
J-GLOBAL ID：200903014112737215
フォトレチクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-144217
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015848
出願日： 1994年06月27日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：
【要約】【目的】フォトレチクルの回折現象による光の拡がりによって生じる解像力の低下を低減する。【構成】光透過性基板1の主面11上に形成された遮光パターン2の光透過部22のエッジ部22Eを通過する光の回折による拡がりを補正するように、光を収束させるレンズ効果を有する光透過性膜6を設ける。
請求項（抜粋）：
光を遮光する遮光部と光を通過させる光透過部とからなる遮光パターンを光透過性基板の一主面上に形成したフォトレチクルにおいて、前記遮光パターンの光透過部のエッジ部分で通過する光の回折による拡がりを補正するように光を収束させるレンズ効果を有する光透過性膜を前記光透過部のエッジ部分の近傍に設けたことを特徴とするフォトレチクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 515 F
