特許
J-GLOBAL ID：200903053054684403

レーザパルス制御方法と装置およびX線発生方法と装置

発明者：
室 幹雄

室 幹雄 について

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藤井 貞夫

藤井 貞夫 について

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山川 考一

山川 考一 について


出願人/特許権者：
川崎重工業株式会社

川崎重工業株式会社 について

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日本原子力研究所

日本原子力研究所 について


代理人 (1件)： 関 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-073365
公開番号（公開出願番号）：特開2003-270551
出願日： 2002年03月15日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：
【要約】【課題】 超短光パルスレーザなどをターゲットに照射してX線を発生させる装置において、X線の強度、特に必要とする特定波長のX線強度を選択的に制御するようにパルスレーザを調整する機構を備えたX線発生装置を提供する。【解決手段】 X線分光器10で発生するX線の強度特性を測定し、その測定結果を波面位相調整機構3にフィードバックしてレーザビームの波面状態を調整し、ターゲット7に集光した位置におけるレーザビームの空間強度分布パターンを調整して特定波長のX線の発生を制御すると共に、X線強度特性の測定結果に基づいてX線強度が適正なものとなるように制御パラメータを調整する。
請求項（抜粋）：
入射する超短光パルスレーザ光を分割してそれぞれ別の光路を走行させ、再び合成して得られたレーザ光を放射するレーザパルス発生方法において、一方または両方の光路内に可変形鏡を備えて該可変鏡表面形状によりパルスレーザ毎に空間強度分布が所定のパターンになるように調整すると共に、前記光路中における光路長を調整して先行パルスレーザと後続パルスレーザに時間差を与えることを特徴とするレーザパルス制御方法。
IPC (9件)：
G02B 26/02 ,  G01T 1/29 ,  G02F 1/01 ,  H01S 3/00 ,  H05G 2/00 ,  H05H 1/24 ,  G02F 1/13 505 ,  G21K 5/02 ,  G21K 7/00
FI (9件)：
G02B 26/02 E ,  G01T 1/29 A ,  G02F 1/01 D ,  H01S 3/00 A ,  H05H 1/24 ,  G02F 1/13 505 ,  G21K 5/02 X ,  G21K 7/00 ,  H05G 1/00 K
Fターム (40件)：
2G088EE30 ,  2G088FF02 ,  2G088FF13 ,  2G088FF15 ,  2G088GG30 ,  2H041AA07 ,  2H041AA23 ,  2H041AB14 ,  2H041AB38 ,  2H041AC08 ,  2H041AC10 ,  2H041AZ06 ,  2H079AA02 ,  2H079AA12 ,  2H079CA02 ,  2H088EA33 ,  2H088EA45 ,  2H088EA46 ,  2H088HA20 ,  4C092AA06 ,  4C092AB02 ,  4C092AC08 ,  4C092CC03 ,  4C092CD10 ,  4C092CF02 ,  4C092CF42 ,  4C092DD01 ,  5F072FF08 ,  5F072HH02 ,  5F072JJ20 ,  5F072MM07 ,  5F072MM08 ,  5F072MM17 ,  5F072MM18 ,  5F072MM20 ,  5F072RR07 ,  5F072SS04 ,  5F072SS08 ,  5F072SS10 ,  5F072YY20
引用特許：
審査官引用 (7件)
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