粒子解析方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井島藤治 , 鮫島信重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-351606
公開番号（公開出願番号）：特開2007-155515
出願日： 2005年12月06日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】本発明は粒子解析及び装置に関し、分類ミスが起こらず、スループットを上げることができる粒子解析方法及び装置を提供することを目的としている。【解決手段】調整されたビーム電流のもとで、元素分析に必要な第1の計数時間を決定し、このビーム条件で輝度調整視野の画像信号を取得して制御装置にて基準となる第1のヒストグラムを作成すると共に基準X線強度を得、該第1のヒストグラムより粒子検出に適した第1の閾値を決定し、試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、制御装置により前記第1の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、検出粒子に順次ビームを前記第1の計数時間照射し、X線検出器にて特性X線を取得し、制御装置による粒子分類を行なうように構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料に電子線を照射し、その電子線照射により試料から放出された電子を検出して視覚画像を得る走査型電子顕微鏡において、調整されたビーム電流のもとで、元素分析に必要な第1の計数時間を決定し、このビーム条件で輝度調整視野の画像信号を取得して制御装置にて基準となる第1のヒストグラムを作成すると共に基準X線強度を得、該第1のヒストグラムより粒子検出に適した第1の閾値を決定し、試料ステージにて目的視野を順次移動して信号を取り込み、制御装置により前記第1の閾値で2値化を行ない、粒子解析を実行し、検出粒子に順次ビームを前記第1の計数時間照射し、X線検出器にて特性X線を取得し、制御装置による粒子分類を行なう、ことを特徴とする粒子解析方法。

IPC (2件)：

G01N 23/225 , H01J 37/22

FI (2件)：

G01N23/225 , H01J37/22 502H

Fターム (13件)：

2G001AA03 , 2G001BA05 , 2G001BA07 , 2G001BA15 , 2G001CA01 , 2G001CA03 , 2G001FA04 , 2G001FA06 , 2G001GA06 , 2G001HA13 , 2G001KA01 , 2G001MA04 , 2G001PA11

引用特許：

出願人引用 (1件)

電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-029513 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ

審査官引用 (8件)

電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-029513 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
特開平4-130257
複数粒子を多重標識して検出および評価するための方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-525391 出願人：ドイチェスクレブスフォルシュングスツェントルム

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