特許
J-GLOBAL ID：200903053078529751

露光方法及びそれを用いた走査型露光装置

発明者：
河野 道生

河野 道生 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-247152
公開番号（公開出願番号）：特開2001-076993
出願日： 1999年09月01日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】スリット光で走査露光するとき投影光学系が露光光を吸収したときの非対称収差の発生を防止した露光方法及びそれを用いた走査露光装置を得ること。【解決手段】露光光により該第1物体側に設けたマークを照明し、該マークからの矩形や円弧などのスリット状光束で第1物体のパターンを照明し、第1物体のパターンを投影光学系により第2物体に、該第1物体と該第2物体を該投影光学系の投影倍率に対応せさた速度比で走査させながら、投影露光する露光方法において光束を該投影光学系に入射させることにより、露光で生じる該投影光学系の非回転対称収差の発生を防止又は発生量を小さくしていること。
請求項（抜粋）：
矩形や円弧などのスリット状光束で第1物体のパターンを照明し、第1物体のパターンを投影光学系により第2物体に、該第1物体と該第2物体を該投影光学系の投影倍率に対応せさた速度比で走査させながら、投影露光する露光方法において、露光光により該第1物体側に設けたマークを照明し、該マークからの光束を該投影光学系に入射させることにより、露光で生じる該投影光学系の非回転対称収差の発生を防止又は発生量を小さくしていることを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/207 ,  G03F 7/22
FI (4件)：
H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/207 H ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 518
Fターム (7件)：
5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB17 ,  5F046CB24 ,  5F046DA13 ,  5F046DA26
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM