特許
J-GLOBAL ID：200903053147738422
有機EL素子、有機EL素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
石島 茂男
, 阿部 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-015840
公開番号（公開出願番号）：特開2008-181828
出願日： 2007年01月26日
公開日（公表日）： 2008年08月07日
要約：
【要 約】【課題】耐水分透過性・耐酸素透過性を持った保護膜が形成された有機EL素子とその製造方法を提供する。【解決手段】表示部20を、第一の無機膜15と有機膜16と第二の無機膜17とが積層された保護層10で覆う。第一の無機膜15によって有機薄膜材料は表示部20と接触せず、第二の無機膜17は有機膜16上に形成されるので、高成膜レートのスパッタリング法によって形成することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
下部電極と、前記下部電極上に配置された有機EL層と、前記有機EL層上に配置された上部電極とから成る表示部と、
前記表示部を覆う保護層とを有する有機EL素子であって、
前記保護層は、前記表示部上に設けられた第一の無機膜と、前記第一の無機膜上に設けられた有機膜と、前記有機膜上に設けられた第二の無機膜とを有する有機EL素子。
IPC (3件)：
H05B 33/04
, H01L 51/50
, H05B 33/10
H05B33/04
, H05B33/14 A
, H05B33/10
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC23
, 3K107CC45
, 3K107EE48
, 3K107EE49
, 3K107EE50
, 3K107GG03
, 3K107GG05
, 3K107GG06
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (5件)
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