特許
J-GLOBAL ID：200903053602164510
マスクアライメント装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-141752
公開番号（公開出願番号）：特開2008-300056
出願日： 2007年05月29日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：
【課題】有機ELディスプレイを製造するためにガラス基板とメタルマスクを位置合わせするためのマスクアライメント装置において、ガラス基板側とメタルマスクとの相対位置を高精度に検出できるようにする。【解決手段】マスク側アライメントマーク17と基板側アライメントマーク16とに対して同軸反射照明装置22と、透過照明装置31とを設ける。反射照明を点灯し、透過照明を消灯して撮像された画像から、基板側アライメントマーク16の位置及びマスク側アライメントマーク17の位置を検出して位置合わせを行った後に、透過照明を点灯し、反射照明を消灯して撮像された画像から、基板側アライメントマーク16の位置及びマスク側アライメントマーク17の位置を検出して、位置合わせを行う。これにより、高精度の位置合わせが行える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガラス基板に形成された基板側アライメントマークとマスクに形成されたマスク側アライメントマークを撮像し、前記基板側アライメントマークと前記マスク側アライメントマークの撮像画像から前記ガラス基板と前記マスクの相対位置関係を算出し、前記算出された相対位置関係に基づいて前記ガラス基板と前記マスクを位置合わせするマスクアライメント装置において、
前記基板側アライメントマークと前記マスク側アライメントマークとを撮像する撮像手段と、
前記ガラス基板と前記マスクに対して前記撮像手段の撮像方向から照明光を照射する反射照明手段と、
前記ガラス基板と前記マスクに対して前記撮像手段の撮像方向とは反対側の方向から照明光を照射する透過照明手段と、
前記反射照明手段の点灯及び消灯を制御する反射照明制御手段と、
前記透過照明手段の点灯及び消灯を制御する透過照明制御手段と、
前記撮像手段により撮像された画像を用いて、前記マスク側アライメントマークの位置と前記基板側アライメントマークの位置を検出し、前記基板側アライメントマークの検出位置と前記マスク側アライメントマークの検出位置とに基づいて、前記ガラス基板と前記マスクとのずれ量を算出する制御手段と、
前記算出されたずれ量に基づいて、前記ガラス基板と前記マスクとの位置合わせを行う基板移動手段と、
を備えることを特徴とするマスクアライメント装置。
IPC (5件)：
H05B 33/10
, H05B 33/02
, H01L 51/50
, C23C 14/04
, C23C 14/50
H05B33/10
, H05B33/02
, H05B33/14 A
, C23C14/04 A
, C23C14/50 F
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC45
, 3K107DD12
, 3K107GG31
, 3K107GG33
, 3K107GG54
, 4K029AA09
, 4K029BA62
, 4K029DB06
, 4K029HA00
, 4K029HA01
, 4K029HA04
