特許
J-GLOBAL ID：200903090715331254
マスクアライメント法を用いたディスプレイの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
楠本 高義
, 増田 建
, 中越 貴宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-187973
公開番号（公開出願番号）：特開2006-012597
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】ディスプレイ基板とマスクのアライメントプロセスを迅速/正確に行い、表示品位の高い大画面ディスプレイを提供する。【解決手段】複数の画素パターンを有する基板110と、画素パターンに対応する穴部を有するマスク50を準備する第1工程と、マスクと基板とを位置合わせし、両者を固定する前の状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定する第2工程と、マスクと基板との位置関係を固定し、この状態における穴部と画素パターンとの位置関係を測定し、この位置関係と第2工程において測定した位置関係との間の位置ずれ量を算出する第3工程と、同一のマスクを他の基板に対して位置合わせを行う際に、前記位置ずれ量をフィードバックし、マスクと該他の基板との位置関係を補正する第4工程と、蒸着源より蒸着物をマスクの穴部を介して画素パターン上に被着させることにより、画素パターン上に蒸着物層114を形成する第5の工程とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の画素パターンを有するディスプレイ基板と、前記画素パターンに対応する穴部を有するマスクと、を準備する第1の工程と
前記マスクと前記ディスプレイ基板とを位置合わせし、両者の位置関係を固定する前の状態における前記穴部と前記画素パターンとの位置関係を測定する第2の工程と、
前記マスクと前記ディスプレイ基板との位置関係を固定し、この状態における前記穴部と前記画素パターンとの位置関係を測定し、該測定した位置関係と、前記第2の工程において測定した位置関係との間の位置ずれ量を算出する第3の工程と、
前記マスクと同一のマスクを他のディスプレイ基板に対して位置合わせを行う際に、前記第3の工程で算出した前記位置ずれ量をフィードバックし、前記マスクと該他のディスプレイ基板との位置関係を補正する第4の工程と、
前記マスクの外側に配置された蒸着源より蒸着物を前記マスクの穴部を介して前記画素パターン上に被着させることにより、該画素パターン上に蒸着物層を形成する第5の工程と、を備えたことを特徴とするディスプレイの製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10
, C23C 14/12
, C23C 14/24
, H01L 51/50
H05B33/10
, C23C14/12
, C23C14/24 G
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029BA62
, 4K029BC00
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029HA01
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)
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