特許

J-GLOBAL ID：200903062888984330

露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

発明者： 蛭川 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-156545
公開番号（公開出願番号）：特開2005-012201
出願日： 2004年05月26日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】 投影光学系と基板との間の液体を介して基板を液浸露光処理する場合においても、精度良くパターン転写できる露光方法を提供する。【解決手段】 投影光学系の投影領域を含む基板上の少なくとも一部に液浸領域を形成し、投影光学系と基板との間の液体及び投影光学系を介してマスクのパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する際、投影光学系と基板との間の液体に入射する露光光ELの分布に応じて、基板上に所望のパターン像が投影されるように調整を行う。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

マスクのパターンの像を、投影光学系と基板の間の液体を介して基板上に投影することによって基板を露光する露光方法であって、 前記液体に入射する露光光の分布に応じてパターン像の投影状態を調整することと; 前記調整された投影状態で基板を露光することを含む露光方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (4件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516A ,  H01L21/30 516E

Fターム (15件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DA26 ,  5F046DB01 ,  5F046DB02 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12 ,  5F046DD06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 国際公開第99/49504号パンフレット
  

審査官引用 (4件)

• 露光装置、露光装置の製造方法、およびマイクロデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-157038   出願人：株式会社ニコン
• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-274812   出願人：株式会社ニコン
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社