特許

J-GLOBAL ID：200903054006856070

基板処理装置

発明者： 茂森 和士 ,  金山 幸司 ,  宮城 聡 ,  春本 晶子
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-185762
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005659
出願日： 2005年06月24日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】 基板の端面の汚染に起因する露光装置内の汚染を防止できる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置500は、インデクサブロック8、端面洗浄処理ブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14、洗浄/乾燥処理ブロック15およびインターフェースブロック16を備える。基板処理装置500のインターフェースブロック16に隣接するように露光装置17が配置される。露光装置17においては、液浸法により基板Wの露光処理が行われる。端面洗浄処理ブロック9の端面洗浄処理部90においては、露光処理前の基板Wの端面が洗浄される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、 基板に処理を行うための処理部と、 前記処理部の一端部に隣接するように設けられ、前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、 前記処理部は、 前記露光装置による露光処理前の基板の端面を洗浄する第1の処理ユニットを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/30

FI (9件)：

H01L21/304 644A ,  H01L21/304 648A ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 643D ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/30 564Z ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/38 511 ,  G03F7/30 501

Fターム (11件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096CA06 ,  2H096CA20 ,  2H096DA10 ,  2H096FA10 ,  2H096GA29 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  5F046CD05 ,  5F046JA15

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129817   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 国際公開第99/49504号パンフレット
  

審査官引用 (6件)

• 塗布処理装置およびこれを用いた基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-046587   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-162101   出願人：株式会社東京精密
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129817   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 露光装置及びデバイス製造方法、露光システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-410472   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-386703   出願人：株式会社半導体先端テクノロジーズ
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-182839   出願人：大日本スクリーン製造株式会社