特許
J-GLOBAL ID：200903002756017860

露光装置及びデバイス製造方法、露光システム

発明者：
馬込 伸貴

馬込 伸貴 について

, 
高岩 宏明

高岩 宏明 について

, 
荒井 大

荒井 大 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-410472
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101487
出願日： 2003年12月09日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 投影光学系と基板との間に液体を満たして露光する際、基板に付着した液体に起因するデバイスの劣化を抑えることができる露光装置を提供する。【解決手段】 デバイス製造システムSYSは、投影光学系PLと基板Pとの間を液体50で満たし、投影光学系PLと液体50とを介してパターンの像を基板P上に投影する露光装置本体EXと、露光装置本体EXと基板Pの露光後の処理を行うコータ・デベロッパ本体C/Dとのインターフェース部IFと、基板Pの露光後、インターフェース部IFを介して基板Pがコータ・デベロッパ本体C/Dへ搬出される前に、基板Pに付着した液体50を除去する液体除去装置100とを備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、 パターンの像を基板に投影する投影光学系と、 露光された基板を処理する処理装置との接続部と、 前記接続部を介して基板が処理装置へ搬出される前に、基板に付着した液体を除去する液体除去装置とを備える露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515G
Fターム (5件)：
5F046BA03 ,  5F046CB24 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046DB03
引用特許：
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (15件)
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