蒸気加硫装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-243217
公開番号（公開出願番号）：特開2003-053740
出願日： 2001年08月10日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】容器の大きさや形状に係わらず、容器の全体に且つ均一に蒸気を供給して、未加硫物の全体を均一に加硫することのできる蒸気加硫装置を得ること。【解決手段】密閉状の加硫缶1に蒸気供給管2と圧縮空気供給管3を接続する。蒸気供給管2の端部で加硫缶1内に複数のスプレーノズル22〜26を取り付ける。スプレーノズル22〜26の入口側にそれぞれ開閉弁32〜36を取り付ける。加硫缶1内に所定圧力の蒸気と圧縮空気を供給することによって、それぞれの分圧に応じた任意の圧力と温度で加硫を行う。加硫缶1内に供給する蒸気流れを、開閉弁32〜36の開閉を制御することによって任意にコントロールすることができ、加硫缶1内の温度分布を均一にすることができる。

請求項（抜粋）：

ゴムの未加硫物を密閉状容器内に配置し、当該容器内に蒸気供給管から蒸気を供給して未加硫物を加硫するものにおいて、蒸気供給管の容器側端部に複数のスプレーノズルを取り付けて、当該複数のスプレーノズルの入口側に開閉弁を設けたことを特徴とする蒸気加硫装置。

IPC (2件)：

B29C 35/04 , B29K 19:00

FI (2件)：

B29C 35/04 , B29K 19:00

Fターム (9件)：

4F203AA45 , 4F203AH04 , 4F203AP02 , 4F203AP05 , 4F203DA11 , 4F203DB01 , 4F203DC04 , 4F203DL14 , 4F203DM02

引用特許：

審査官引用 (7件)

蒸気加硫装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-213374 出願人：株式会社テイエルブイ
特開昭63-043935
特開昭63-111017

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