特許
J-GLOBAL ID：200903054210251152

基板製造装置

発明者：
岡崎 庄治

岡崎 庄治 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (3件)： 安富 康男 ,  玉井 敬憲 ,  重平 和信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-020487
公開番号（公開出願番号）：特開2005-211770
出願日： 2004年01月28日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】 面内における膜厚の均一性に優れた薄膜を形成することができ、有機EL表示装置等の電子表示装置の製造に好適に適用することができる基板製造装置を提供する。【解決手段】 基板上にインクジェット装置等からなる液滴塗布部から液滴を付着させ、電磁波照射部により赤外線等の電磁波を照射して有機EL素子における有機層等の薄膜を形成する工程に用いられる基板製造装置であって、上記基板製造装置は、液滴を基板上に付着させた後、順次電磁波を照射するものである基板製造装置である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に液滴塗布部から液滴を付着させ、電磁波照射部により電磁波を照射して薄膜を形成する工程に用いられる基板製造装置であって、 該基板製造装置は、液滴を基板上に付着させた後、順次電磁波を照射するものであることを特徴とする基板製造装置。
IPC (4件)：
B05C9/12 ,  H01L21/368 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (4件)：
B05C9/12 ,  H01L21/368 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (9件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4F042AA06 ,  4F042DB52 ,  5F053AA50 ,  5F053DD19 ,  5F053LL01 ,  5F053RR01
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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