特許

J-GLOBAL ID：200903054385302264

成膜装置

発明者： 古瀬 晴邦 ,  内山 豊司 ,  山田 智広 ,  外岡 和彦 ,  菊地 直人
出願人/特許権者： 株式会社アルバック ,  独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人エクシオ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-127842
公開番号（公開出願番号）：特開2006-307247
出願日： 2005年04月26日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：

【課題】 パターンの相違するマスクに交換しつつ基板上に同一または相互に異なる材料を積層する場合に、基板に対しマスクを正確かつ再現性よく配置でき、装置自体が大型化せずに低コストで製作できるようにした成膜装置を提供する。【解決手段】 成膜室12内に、蒸発源4と、同一円周上で所定の間隔を置いて相互にパターンが同一または異なるマスクの配置を可能とした回転自在なステージ2と、基板の搬送を可能とする搬送手段6とを設ける。搬送手段によって、いずれかのマスク上にこのマスクに対し位置決めして基板を設置した後、ステージを回転させて蒸発源に対向した位置に搬送し、マスクを通して基板への成膜を行う。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

成膜室内に、蒸発源と、同一円周上で所定の間隔を置いて相互にパターンが同一または異なるマスクの配置を可能とした回転自在なステージと、基板の搬送を可能とする搬送手段とを備え、この搬送手段によって、いずれかのマスク上にこのマスクに対し位置決めして基板を設置した後、ステージを回転させて蒸発源に対向した位置に搬送し、マスクを通して基板への成膜を可能としたことを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/50 ,  C23C 14/24

FI (3件)：

C23C14/50 F ,  C23C14/24 G ,  C23C14/24 J

Fターム (5件)：

4K029BD00 ,  4K029HA01 ,  4K029HA04 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 有機エレクトロルミネッセンス素子を有するディスプレイ装置の製造装置及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-208181   出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社
• 真空基板搬送装置及び真空基板搬送方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-265798   出願人：信越化学工業株式会社
• マスク位置合せ機構付き成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-115146   出願人：株式会社アルバック
• コンビナトリアルデバイス作製装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-213274   出願人：科学技術振興事業団

審査官引用 (1件)

• 真空基板搬送装置及び真空基板搬送方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-265798   出願人：信越化学工業株式会社