特許
J-GLOBAL ID：200903054711064557

パターン形成方法

発明者：
豊田 直之

豊田 直之 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-281139
公開番号（公開出願番号）：特開2008-098552
出願日： 2006年10月16日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：
【課題】オンデマンドなパターンを形成することが可能となるパターン形成方法を提供する。【解決手段】受容部P上に、形成する配線パターンの外枠を囲む形状をした撥液部16a,16bをインクジェット法によって形成し、その後、その撥液部16a,16bを基板Sのパターン形成面So上に転写して撥液パターンを基板S上に形成するようにした。その後、基板S上に転写された撥液パターンで囲まれた領域内にインクジェット法によって液滴を塗布し配線パターンを形成するようにした。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板上に機能性材料を含む液滴を吐出して機能性パターンを形成するパターン形成方法に おいて、 受容部の表面上に、前記機能性パターンの外形状に沿って撥液性液状体の液滴を吐出し て、前記機能性パターンを囲む形状を成した撥液パターンを形成する撥液パターン形成工 程と、 前記受容部の表面上に形成された前記撥液パターンを、前記基板上に転写する転写工程 と、 前記基板上に転写された前記撥液パターンで囲まれた領域に、前記機能性材料を含む前 記液滴を吐出する吐出工程と を備えたことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 564Z
Fターム (3件)：
5F046JA01 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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