特許
J-GLOBAL ID:200903054776348773
パターン形成体用塗工液
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-392716
公開番号(公開出願番号):特開2005-156739
出願日: 2003年11月21日
公開日(公表日): 2005年06月16日
要約:
【課題】 本発明は、特性の異なるパターンが効率的に形成されるパターン形成体の製造に用いられ、例えばダイコート法やビードコート法等による塗布も可能なパターン形成体用塗工液を提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、光触媒、乾燥抑制剤、および特性付与剤を含有することを特徴とするパターン形成体用塗工液を提供する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
光触媒、乾燥抑制剤、および特性付与剤を含有することを特徴とするパターン形成体用塗工液。
IPC (6件):
G03F7/004
, G02B5/20
, G03F7/075
, H05B33/10
, H05B33/14
, H05K3/10
FI (7件):
G03F7/004 521
, G03F7/004 501
, G02B5/20 101
, G03F7/075 511
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05K3/10 C
Fターム (28件):
2H025AB13
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BH03
, 2H025BH04
, 2H025CB33
, 2H025CC03
, 2H025CC04
, 2H025CC09
, 2H025EA04
, 2H025FA03
, 2H048BA02
, 2H048BA42
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB22
, 2H048BB42
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 5E343AA02
, 5E343BB72
, 5E343DD01
, 5E343DD68
, 5E343GG11
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (16件)
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