特許
J-GLOBAL ID:200903054776348773

パターン形成体用塗工液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-392716
公開番号(公開出願番号):特開2005-156739
出願日: 2003年11月21日
公開日(公表日): 2005年06月16日
要約:
【課題】 本発明は、特性の異なるパターンが効率的に形成されるパターン形成体の製造に用いられ、例えばダイコート法やビードコート法等による塗布も可能なパターン形成体用塗工液を提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、光触媒、乾燥抑制剤、および特性付与剤を含有することを特徴とするパターン形成体用塗工液を提供する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
光触媒、乾燥抑制剤、および特性付与剤を含有することを特徴とするパターン形成体用塗工液。
IPC (6件):
G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G03F7/075 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 ,  H05K3/10
FI (7件):
G03F7/004 521 ,  G03F7/004 501 ,  G02B5/20 101 ,  G03F7/075 511 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05K3/10 C
Fターム (28件):
2H025AB13 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H025BH04 ,  2H025CB33 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC09 ,  2H025EA04 ,  2H025FA03 ,  2H048BA02 ,  2H048BA42 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB22 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  5E343AA02 ,  5E343BB72 ,  5E343DD01 ,  5E343DD68 ,  5E343GG11
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (16件)
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