特許
J-GLOBAL ID:200903037316706459

光触媒含有層基板およびパターン形成体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-433367
公開番号(公開出願番号):特開2005-186005
出願日: 2003年12月26日
公開日(公表日): 2005年07月14日
要約:
【課題】 本発明は、特性の大きく異なるパターンを効率的に形成することが可能な光触媒含有層を有する光触媒含有層基板や、パターン形成体の製造方法、またその光触媒含有層に用いられる光触媒含有層形成用組成物等を提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、光触媒と金属微粒子とを少なくとも含有し、かつ有機物と所定の間隙となるように配置されてエネルギー照射に伴う光触媒の作用により有機物を分解または変性させる光触媒含有層の形成に用いられることを特徴とする光触媒含有層形成用組成物を提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光触媒と金属微粒子とを少なくとも含有し、かつ有機物と所定の間隙となるように配置されてエネルギー照射に伴う光触媒の作用により有機物を分解または変性させる光触媒含有層の形成に用いられることを特徴とする光触媒含有層形成用組成物。
IPC (7件):
B01J35/02 ,  B01J23/50 ,  B32B9/00 ,  C23C28/00 ,  G02B5/20 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (7件):
B01J35/02 J ,  B01J23/50 M ,  B32B9/00 A ,  C23C28/00 E ,  G02B5/20 101 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (81件):
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA58 ,  2H048BA60 ,  2H048BA64 ,  2H048BB01 ,  2H048BB02 ,  2H048BB24 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4F100AB01B ,  4F100AB02B ,  4F100AB15B ,  4F100AB16B ,  4F100AB17B ,  4F100AB21B ,  4F100AB23B ,  4F100AB24B ,  4F100AB25B ,  4F100AG00 ,  4F100AG00A ,  4F100AH06 ,  4F100AH06B ,  4F100AK01B ,  4F100AK52 ,  4F100AK52B ,  4F100AR00C ,  4F100AR00D ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100DE01B ,  4F100EH46 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ52 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ85 ,  4F100EJ85C ,  4F100GB41 ,  4F100JG01 ,  4F100JN01A ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BC21A ,  4G069BC22A ,  4G069BC31A ,  4G069BC32A ,  4G069BC32B ,  4G069BC33A ,  4G069BC36A ,  4G069BC65A ,  4G069BC69A ,  4G069CB35 ,  4G069CD10 ,  4G069EA01Y ,  4G069EA08 ,  4G069EB18Y ,  4G069EB19 ,  4G069ED02 ,  4G069FA03 ,  4G069FB06 ,  4G069FB23 ,  4K044AA12 ,  4K044AB02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA08 ,  4K044BA10 ,  4K044BA21 ,  4K044BB03 ,  4K044BB10 ,  4K044BB15 ,  4K044CA15 ,  4K044CA53
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (13件)
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