特許

J-GLOBAL ID：200903054963832395

真空蒸着装置

発明者： 佐々木 博之 ,  西森 泰輔
出願人/特許権者： パナソニック電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-015733
公開番号（公開出願番号）：特開2009-174027
出願日： 2008年01月28日
公開日（公表日）： 2009年08月06日
要約：

【課題】真空蒸着装置において、正確な蒸着レートを安定的に計測して、この蒸着レートに基づいて高精度な蒸着膜を形成する。【課題手段】真空蒸着装置は真空チャンバ1内に蒸着材料2を収容する蒸発源3と被蒸着体4とが、蒸発源3と被蒸着体4との間には蒸着材料2が気化される温度に加熱された筒状体5が配置される。また、真空蒸着装置は蒸着膜厚を計測する膜厚計測部6と、筒状体5と膜厚計測部6との間を接続する誘導路7とを備え、誘導路7は屈曲部71を備えると共に蒸着材料2が気化される温度に加熱される。この構成によれば、蒸着材料2が誘導路7内に堆積せず、膜厚計測部6は筒状体5からの輻射熱を受け難くなり、突沸が生じても塊状の蒸着材料2が膜厚計測部6に付着しない。そのため、真空蒸着装置は正確な蒸着レートを安定的に計測でき、これに基づいて高精度な蒸着膜を形成することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内に蒸着材料を収容する蒸発源と被蒸着体とを配置すると共に、前記蒸発源と被蒸着体との間を前記蒸着材料が気化される温度に加熱された筒状体で囲み、前記蒸発源から気化した蒸着材料を前記筒状体内を通して前記被蒸着体の表面に蒸着させる真空蒸着装置において、 前記筒状体外に設けられ、前記蒸発源から気化した蒸着材料を付着させてその蒸着膜厚を計測する膜厚計測部と、 前記筒状体の内部空間と前記膜厚計測部との間を接続して設けられ、前記蒸発源から気化した蒸着材料を前記膜厚計測部に誘導する誘導路と、を備え、 前記誘導路は、屈曲部を備えると共に、前記蒸着材料が気化される温度に加熱されることを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/24 U ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (13件)：

3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG34 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DA03 ,  4K029DA12 ,  4K029DB12 ,  4K029DB18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 真空蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-218625   出願人：松下電工株式会社, 城戸淳二, トッキ株式会社

審査官引用 (4件)

• 蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-096582   出願人：日立造船株式会社
• 薄膜堆積用分子線源セル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-180283   出願人：株式会社エイコー・エンジニアリング
• 薄膜堆積用分子線源セル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-084868   出願人：株式会社エイコー・エンジニアリング
• 真空蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-218625   出願人：松下電工株式会社, 城戸淳二, トッキ株式会社