特許
J-GLOBAL ID：200903055109339207
塗布方法、塗布装置及び光学素子用成形金型の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
田村 敬二郎
, 小林 研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-175351
公開番号（公開出願番号）：特開2004-016922
出願日： 2002年06月17日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】基材にレジスト膜を形成する際に塗布するレジスト溶液が少量で済みしかも基材の外周におけるつば部等の無駄な部分を省略することのできる塗布方法、塗布装置及び光学素子用成形金型の製造方法を提供する。【解決手段】この塗布方法は、噴霧法またはインクジェット法によりレジスト溶液を微粒子化して基材10の表面に付着させてから、基材を熱処理することで基材の表面上のレジスト膜をレベリングし、均一な膜厚のレジスト膜13を得る。スピンコート法によらないためレジスト溶液が少量で済み、基材の外周におけるつば部等の無駄な部分を省略できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レジスト溶液を微粒子化して被塗布材の表面に付着させるステップと、
前記被塗布材を熱処理することで前記被塗布材の表面上のレジスト膜をレベリングするステップと、を含むことを特徴とする塗布方法。
IPC (3件)：
B05D3/02
, B05C5/00
, B05C9/14
B05D3/02 Z
, B05C5/00 101
, B05C9/14
2H025AB14
, 2H025EA04
, 4D075AA01
, 4D075AA36
, 4D075AA53
, 4D075AA65
, 4D075AA83
, 4D075AC06
, 4D075AC09
, 4D075AC73
, 4D075AC94
, 4D075BB24Z
, 4D075BB93Z
, 4D075CA48
, 4D075DA13
, 4D075DB13
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EA45
, 4D075EB22
, 4F041AA05
, 4F041AB02
, 4F041BA10
, 4F041BA13
, 4F041BA22
, 4F041BA34
, 4F041BA56
, 4F042AA10
, 4F042BA12
, 4F042BA19
, 4F042BA25
, 4F042DB04
, 4F042DC01
