微細作業用マイクロマニピュレーション装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田中宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-169974
公開番号（公開出願番号）：特開2002-365334
出願日： 2001年06月05日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：

【要約】【目的】本発明は、顕微鏡画像下において、顕体試料の加工や測定、検査等の微細作業を効果的に行なうための装置に係わるものである。【構成】共通チャンバーベース上に、X軸、Y軸及びZ軸方向への任意の移動とZ軸回りの回転が可能な試料ステージを載置し、更に前記試料ステージ上には、作業台およびX軸、Y軸、Z軸方向への粗動と微動が可能なマニピュレータユニットとを置き、前記作業台上に載置された顕体試料と、前記マニピュレータ上に搭載されたマイクロプローブとを顕微鏡視野下で観察しながら微細作業を行なうことを特徴とする微細作業用マイクロマニピュレーション装置を提供する。

請求項（抜粋）：

共通チャンバーベース上に、X軸、Y軸及びZ軸方向への任意の移動とZ軸回りの回転が可能な試料ステージを載置し、更に前記試料ステージ上には、作業台およびX軸、Y軸、Z軸方向への粗動と微動が可能なマニピュレータユニットとを置き、前記作業台上に載置された顕体試料と、前記マニピュレータ上に搭載された電気的機能を有するマイクロプローブとを顕微鏡視野下で観察しながら微細作業を行なうことを特徴とする微細作業用マイクロマニピュレーション装置。

IPC (7件)：

G01R 31/28 , B25J 7/00 , G01R 1/06 , G01R 31/26 , G02B 21/32 , H01L 21/302 , H01L 21/66

FI (9件)：

B25J 7/00 , G01R 1/06 E , G01R 31/26 J , G02B 21/32 , H01L 21/66 B , H01L 21/66 L , H01L 21/66 M , G01R 31/28 K , H01L 21/302 Z

Fターム (46件)：

2G003AA07 , 2G003AA10 , 2G003AG03 , 2G003AG13 , 2G003AG20 , 2G003AH01 , 2G003AH04 , 2G003AH05 , 2G003AH06 , 2G003AH07 , 2G011AA02 , 2G011AB04 , 2G011AC14 , 2G011AE03 , 2G132AA00 , 2G132AE02 , 2G132AE22 , 2G132AF06 , 2G132AF07 , 2G132AL03 , 2G132AL04 , 2G132AL06 , 2G132AL11 , 2H052AF19 , 3C007AS14 , 3C007BS26 , 3C007BS30 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA11 , 4M106BA20 , 4M106CA04 , 4M106CA05 , 4M106CA10 , 4M106CA11 , 4M106DD30 , 4M106DJ04 , 4M106DJ06 , 4M106DJ39 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB24 , 5F004BD07 , 5F004EA38 , 5F004EB02 , 5F004EB03

引用特許：

審査官引用 (6件)

微細作業用マイクロマニピュレーション装置及び微細作業用マイクロプローブ
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-025155 出願人：株式会社三友製作所, 山本佳男
プローブステーション
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-120177 出願人：和泉精機株式会社
特開平3-124040

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