特許
J-GLOBAL ID：200903055125091223
リングレーザー装置及びリングレーザージャイロ装置のスペクトル線幅の制御方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-210095
公開番号（公開出願番号）：特開2002-022455
出願日： 2000年07月11日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：
【要約】【課題】 狭帯域化のための光学系を必要とせず、装置全体を小型化することが出来るリングレーザー及びリングレーザージャイロ装置のスペクトル線幅の制御装置および制御方法を提供する。【解決手段】 フィードバック回路では、たとえば、注目しているパルスの直前の3つのパルスの中から、最もパルス幅の狭いものを選び出し、これを基準として、注目しているパルスの幅が基準より広いか狭いかを判断する(図3の9)。フィードバック回路は、リングレーザーに注入する電流を、現在注目しているパルス幅と基準のパルス幅との差に応じて増減させる(図3の10)。そして、基準のパルス幅を、常に注目しているパルスの一つ前のパルス幅とし、常に注目しているパルスのパルス幅が基準パルス幅よりも狭くなるようにする。
請求項（抜粋）：
右回りと左回りの2つのレーザー光が共存し、該2つのレーザー光の発振周波数に差を設ける機構を備えたリングレーザーを含むリングレーザー装置と、パルス状のビート信号の幅を制御できるように注入電流を負帰還制御する負帰還制御回路と、該負帰還制御回路を用いて該右回り、および該左回りのレーザー光のスペクトル線幅を制御する機構を有することを特徴とするリングレーザー装置。
IPC (3件)：
G01C 19/66
, H01S 3/083
, H01S 5/10
G01C 19/66
, H01S 3/083
, H01S 5/10
2F105BB13
, 2F105DD07
, 5F072AB13
, 5F072JJ01
, 5F072LL09
, 5F073AA66
, 5F073BA09
, 5F073EA02
, 5F073EA29
