特許
J-GLOBAL ID:200903055161674928
α-ヒドロキシアルキル基をもつアクリル酸又はそのエステルの重合体又は共重合体
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
阿形 明
, 水口 崇敏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-267534
公開番号(公開出願番号):特開2005-042119
出願日: 2004年09月14日
公開日(公表日): 2005年02月17日
要約:
【課題】 ArFエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が垂直なレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物の樹脂成分として好適な重合体及び共重合体を提供する。【解決手段】 α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸及びそのアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーの重合体又は共重合体、及び(a)α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸及びそのアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーと、(b)(a)以外のエチレン性不飽和カルボン酸及びそのエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーとの共重合体とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸及びそのアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーの重合体又は共重合体。
IPC (4件):
C08F20/00
, G03F7/033
, G03F7/038
, H01L21/027
FI (4件):
C08F20/00
, G03F7/033
, G03F7/038 601
, H01L21/30 502R
Fターム (29件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 2H025FA17
, 4J100AJ02Q
, 4J100AJ03Q
, 4J100AL08Q
, 4J100AL29P
, 4J100BA03Q
, 4J100BC12Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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引用文献:
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