特許
J-GLOBAL ID:200903055228545427
レジオレギュラーポリマー、ポリチオフェンおよびブロックコポリマーを含む導電性ポリマーのリビング合成法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
清水 初志
, 刑部 俊
, 新見 浩一
, 小林 智彦
, 渡邉 伸一
, 井上 隆一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-504411
公開番号(公開出願番号):特表2008-534751
出願日: 2006年03月31日
公開日(公表日): 2008年08月28日
要約:
良好な可溶性、加工性および環境安定性を有するレジオレギュラーポリ(3-アルキルチオフェン)および他のポリチオフェンをリビング重合によって調製することができる。重合法は、レジオレギュラーポリ(3-アルキルチオフェン)を高い収率で与えることができる。重合の動力学的研究がこのプロセスのリビング特性を明らかにした。ポリ(3-アルキルチオフェン)の分子量は、ニッケル開始剤に対するモノマーのモル比の関数であり、比較的狭い分子量分布(PDK1.5)を有する導電性ポリマーが今や容易に入手可能である。逐次的なモノマー付加が、異なるポリ(3-アルキルチオフェン)セグメントを含む新たなブロックコポリマーを生じさせ、それがこの系の「リビング性」をさらに裏付ける。他の合成法を同様に使用してリビング重合を実施することもできる。ブレンドおよび電子装置を調製することができる。
請求項(抜粋):
リビング重合を提供する条件下、第一のチオフェンモノマーをグリニャールメタセシス重合によって重合させてポリチオフェン中間体を形成する工程、
第二のチオフェンモノマーの付加によって該中間体を鎖延長してABブロックコポリマーを形成する工程
を含む方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (9件):
4J032BA04
, 4J032BA05
, 4J032BB03
, 4J032BB04
, 4J032BB09
, 4J032BC03
, 4J032BC12
, 4J032BC13
, 4J032CG01
引用特許:
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