特許
J-GLOBAL ID:200903008617354043
エレクトロルミネセンス装置におけるヘテロ原子位置規則性ポリ(3-置換チオフェン)
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
清水 初志
, 新見 浩一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-533635
公開番号(公開出願番号):特表2008-515194
出願日: 2005年09月26日
公開日(公表日): 2008年05月08日
要約:
置換基にヘテロ原子を有する位置規則性ポリチオフェンポリマーを、エレクトロルミネセンス装置の正孔注入層および正孔輸送層において用いることができる。コポリマーおよび有機酸化物を用いることができる。ホモポリマーを用いることができる。金属不純物を除去することができる。ヘテロ原子は酸素であってもよく、3位で置換されていてもよい。利点には、汎用性、合成の制御、および良好な熱安定性が含まれる。異なる装置設計を用いることができる。
請求項(抜粋):
3-置換基がそのαまたはβ位のいずれかにヘテロ原子置換を有するアルキル、アリール、またはアルキル/アリール部分である、位置規則性(regio-regular)ポリ(3-置換チオフェン)を含む少なくとも一つのポリマーを含むHIL/HTL層を含むエレクトロルミネセンス装置であって、
HIL/HTL層は酸化剤であるドーピング剤でドープされており;かつドーピング剤は有機酸化剤である装置。
IPC (2件):
FI (3件):
H05B33/22 D
, H05B33/14 A
, C08G61/12
Fターム (18件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB06
, 3K107CC21
, 3K107CC45
, 3K107DD71
, 3K107DD73
, 3K107DD79
, 3K107DD84
, 3K107FF14
, 3K107FF17
, 4J032BA04
, 4J032BB01
, 4J032BB03
, 4J032BB04
, 4J032BC03
, 4J032BD02
, 4J032CG03
引用特許:
出願人引用 (5件)
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Gambogiら(DuPont)、国際公開公報第2005/081335号
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Heeneyら(Merck)、EP 1,279,691
-
Kollerら、米国特許公報第2005/0080219号
-
McCulloughら、米国特許第6,602,974号
-
McCulloughら、米国特許第6,166,172号
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審査官引用 (13件)
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