特許
J-GLOBAL ID：200903055545455549

機能水製造方法及び装置

発明者：
山下 幸福

山下 幸福 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 赤塚 賢次 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-202840
公開番号（公開出願番号）：特開2001-025715
出願日： 1999年07月16日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】 半導体装置、光・磁気記憶媒体等の洗浄に使用される極めて高い清浄度を有する水素溶解水の製造方法及び洗浄装置を提供すること。【解決手段】 純水又は超純水に水素ガスを溶解して水素溶解水を得、次いで該水素溶解水をアニオン吸着膜、カチオン吸着膜及びキレート膜の少なくともひとつで処理する機能水製造方法及び超純水製造装置、水素溶解水製造装置、アニオン吸着膜、カチオン吸着膜及びキレート膜の少なくともひとつの膜及び電子部品部材洗浄機をこの順序で連接してなる洗浄装置。
請求項（抜粋）：
純水又は超純水に水素ガスを溶解して水素溶解水を得、次いで該水素溶解水をアニオン吸着膜、カチオン吸着膜及びキレート膜の少なくともひとつで処理することを特徴とする機能水製造方法。
IPC (3件)：
B08B 3/04 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/304 648
FI (3件)：
B08B 3/04 Z ,  B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 648 K
Fターム (7件)：
3B201AA03 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CA01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC21
引用特許：
審査官引用 (4件)
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