特許
J-GLOBAL ID：200903055612651498
光導波路の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-287970
公開番号（公開出願番号）：特開平10-133047
出願日： 1996年10月30日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：
【要約】【課題】 工程が煩雑で、コア部とクラッド部の光学的性質や膜厚を選択し難く、光の伝搬損失を低減し難い。また、コア部の屈折率が高く、この導波路から外部のファイバーなどに光を取り出す際の光結合損失が大きいという問題があった。【解決手段】 シリコン基板内にコア部とクラッド部から成る光導波路を形成する光導波路の形成方法において、前記シリコン基板内のコア部となる第一の領域を多孔質化する工程と、この第一の領域に不純物をドープする工程と、この第一の領域周辺部のクラッド部となる第二の領域を多孔質化する工程と、前記シリコン基板を熱処理して前記第一の領域と第二の領域を酸化する工程を含んで成る。
請求項（抜粋）：
シリコン基板内にコア部とクラッド部から成る光導波路を形成する光導波路の形成方法において、前記シリコン基板内のコア部となる第一の領域を多孔質化する工程と、この第一の領域に不純物をドープする工程と、この第一の領域周辺部のクラッド部となる第二の領域を多孔質化する工程と、前記シリコン基板を熱処理して前記第一の領域と第二の領域を酸化する工程を含んで成ることを特徴とする光導波路の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
