特許
J-GLOBAL ID:200903055622336221
金属膜作製方法及び金属膜作製装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
光石 俊郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-365890
公開番号(公開出願番号):特開2003-166061
出願日: 2001年11月30日
公開日(公表日): 2003年06月13日
要約:
【要約】【課題】 可及的速やかにプラズマを安定させ、良好な膜質の金属膜を装置の立ち上げ後、短時間で得ることができる金属膜作製装置を提供する。【解決手段】 チャンバ1内に形成するCl2 ガスプラズマ14で被エッチング部材である銅板部材7をエッチングし、このエッチングにより得る銅を、基板3にCu薄膜16として析出させる装置であって、前記チャンバ1にヒータ18を埋設してその内周面を加熱するとともに、温度センサ19でチャンバ1の温度を検出することによりチャンバ1の温度を所定の温度に加熱・保持するようにした。
請求項(抜粋):
チャンバ内に原料ガスを供給して原料ガスプラズマを形成するか、又は外部で形成した原料ガスプラズマを前記チャンバ内に供給してチャンバに配設する被エッチング部材をエッチングし、このエッチングにより得る金属を、チャンバ内に収容する基板に金属膜として析出させる金属膜作製方法において、先ず、前記チャンバに加熱手段で熱を供給してこのチャンバを所定の温度に加熱し、その後、原料ガスプラズマによる成膜処理を行うことを特徴とする金属膜作製方法。
IPC (3件):
C23C 16/44
, C23C 16/14
, H01L 21/285
FI (3件):
C23C 16/44 A
, C23C 16/14
, H01L 21/285 C
Fターム (11件):
4K030AA03
, 4K030BA01
, 4K030DA06
, 4K030FA04
, 4K030JA06
, 4K030JA10
, 4K030KA22
, 4K030KA39
, 4M104BB04
, 4M104DD43
, 4M104DD44
引用特許:
出願人引用 (6件)
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プラズマCVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-287346
出願人:神港精機株式会社
-
金属含有膜の製造方法と装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-078887
出願人:ソニー株式会社
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特開平2-094521
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審査官引用 (5件)
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プラズマCVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-287346
出願人:神港精機株式会社
-
金属含有膜の製造方法と装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-078887
出願人:ソニー株式会社
-
特開平2-094521
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