特許
J-GLOBAL ID:200903055739761195

メタルマスク

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-191721
公開番号(公開出願番号):特開2004-039319
出願日: 2002年07月01日
公開日(公表日): 2004年02月05日
要約:
【課題】有機ELディスプレイ等の蒸着用メタルマスクとして、高精度なパターン成膜が可能なメタルマスクを提供する。【解決手段】複数の貫通孔を有するメタルマスクであって、該メタルマスクは金属の複数層で形成されているメタルマスクであり、好ましくは開孔寸法を定める開孔形成層と、支持層と、前記開孔形成層と支持層とを接合する接合層とを具備するメタルマスクである。好ましくは開孔形成層と支持層と接合層のうち、少なくとも何れか一層は、残りの層とはエッチング特性が異なるメタルマスクである。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
複数の貫通孔を有するメタルマスクであって、該メタルマスクは金属の複数層で形成されていることを特徴とするメタルマスク。
IPC (3件):
H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  H05B33/14
FI (3件):
H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/14 A
Fターム (5件):
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029CA01 ,  4K029HA03
引用特許:
審査官引用 (8件)
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