特許
J-GLOBAL ID：200903055962375787

セラミックハニカム体の焼成方法及び焼成に用いられるトンネルキルン

発明者：
ダル,アラン ティー

ダル,アラン ティー について

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ヒンクル,トーマス エス

ヒンクル,トーマス エス について

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ウィット,クリストファー エス

ウィット,クリストファー エス について

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ズーニック,エドワード エフ

ズーニック,エドワード エフ について


出願人/特許権者：
コーニング インコーポレイテッド

コーニング インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-525724
公開番号（公開出願番号）：特表2001-527202
出願日： 1998年11月23日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：
【要約】セラミックハニカム構造未焼成体の初期焼成の間、焼成雰囲気内で反応する前に放出される有機すなわち炭素質材料を含有するハニカム構造未焼成体を焼成する方法が開示される。前室領域(12),複数の除去区域(Z1〜Z11)を有し、前室領域の下流にある炭素質材料除去領域(14)及び炭素質材料除去領域の下流にある焼結領域(16)を含む、トンネルキルン(10)も開示される。トンネルキルンは、放出領域と、各除去区域にある排出口を介して有効に通じる、放出された炭素質材料を除去するための排気除去系統(18)をさらに含む。
請求項（抜粋）：
セラミックハニカム構造体を焼成するためのトンネルキルンにおいて: 前室領域、複数の除去区域を有し前記前室領域の下流に位置する炭素質材料除去領域及び前記炭素質材料除去領域の下流に位置する焼結領域;及び 放出された炭素質材料を除去するための前記放出領域の前記除去区域と有効に通じる排気除去系統;を含むことを特徴とするトンネルキルン。
IPC (3件)：
F27B 9/02 ,  C04B 35/64 ,  F27B 9/26
FI (3件)：
F27B 9/02 ,  F27B 9/26 ,  C04B 35/64 A
Fターム (5件)：
4K050AA04 ,  4K050BA07 ,  4K050CA13 ,  4K050CC10 ,  4K050EA08
引用特許：
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (6件)
  • 特公昭56-032551
  • 特公昭56-032551
  • 特開平1-249665
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