暗フィールド検査システム

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 山田行一 , 野田雅一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-541516
公開番号（公開出願番号）：特表2006-501470
出願日： 2003年09月08日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：

サンプルを検査する装置は、サンプルの表面のエリアに光学放射を向けるように適応された放射ソースと、複数の像センサとを備えている。各像センサは、上記エリアから異なる各々の角度範囲へ散乱された放射を受け取って、上記エリアの各像を形成するように構成される。像プロセッサは、各像の少なくとも1つを処理して表面上の欠陥を検出するように適応される。

請求項（抜粋）：

サンプルを検査する装置において、上記サンプルの表面のエリアに光学放射を向けるように適応された放射ソースと、上記エリアから異なる各々の角度範囲へ散乱された放射を受け取って、上記エリアの各像を形成するように各々構成された複数の像センサと、各像の少なくとも1つを処理して上記表面上の欠陥を検出するように適応された像プロセッサと、を備えた装置。

IPC (3件)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , H01S 3/00

FI (3件)：

G01N21/956 A , G01B11/30 A , H01S3/00 F

Fターム (48件)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065FF04 , 2F065FF41 , 2F065GG06 , 2F065GG23 , 2F065HH04 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL03 , 2F065LL08 , 2F065LL22 , 2F065LL24 , 2F065LL32 , 2F065LL46 , 2F065LL49 , 2F065LL57 , 2F065LL59 , 2F065MM03 , 2F065MM13 , 2F065MM16 , 2F065MM23 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AB07 , 2G051BA10 , 2G051BB01 , 2G051BB07 , 2G051BB09 , 2G051BB17 , 2G051BC01 , 2G051CA04 , 2G051CA07 , 2G051CB05 , 2G051CC07 , 2G051CC09 , 2G051CC11 , 2G051DA05 , 2G051EA12 , 2G051EA23 , 5F172AE08 , 5F172AF02 , 5F172ZZ04

引用特許：

審査官引用 (8件)

半導体基板の製造方法並びに被検査対象物上のパターンの欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-139198 出願人：株式会社日立製作所
カラーフィルタの異物検出光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-161952 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社, 共同印刷株式会社
特開平2-114386

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