特許
J-GLOBAL ID:200903056318436844
ポジ型感光性組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-246758
公開番号(公開出願番号):特開平8-087107
出願日: 1994年09月16日
公開日(公表日): 1996年04月02日
要約:
【要約】【目的】 遠紫外領域の光を用いたハーフミクロンリソグラフィーに対応できる、高γ値を有する化学増幅型ポジ型フォトレジストを提供する【構成】 アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤および光によって発生した酸により反応しアルカリ可溶性となる化合物を主成分として含むポジ型感光性組成物において、ポリオキシアルキレン化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤および光によって発生した酸により反応しアルカリ可溶性となる化合物を主成分として含むポジ型感光性組成物において、ポリオキシアルキレン化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (4件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (8件)
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-073169
出願人:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-354297
出願人:日本合成ゴム株式会社
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特開平3-192361
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ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-300374
出願人:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
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溶解阻止ホトレジスト
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-304301
出願人:日本電気株式会社
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パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-280883
出願人:株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
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レジスト塗布組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-197814
出願人:日本合成ゴム株式会社
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感放射線性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-172664
出願人:三菱化学株式会社
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