特許

J-GLOBAL ID：200903056431587220

フッ素添加石英ガラス

発明者： 齊藤 和也 ,  生嶋 明 ,  大賀 裕一
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社 ,  学校法人トヨタ学園
代理人 (1件)： 萩原 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-122625
公開番号（公開出願番号）：特開2002-316831
出願日： 2001年04月20日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】 波長200nm以下程度の真空紫外域での透過率及びレーザ耐性を向上できる真空紫外用フッ素添加石英ガラスを提供する。【解決手段】照射総量として1×106 mJ/cm2 のレーザ光を照射された後の、波長157nmのF2 エキシマレーザ光に対する透過率劣化量が1%/cm以下であるフッ素添加石英ガラス。特に好ましくはフッ素濃度が1質量%以上、且つ仮想温度が800°C以下とされたフッ素添加石英ガラスがレーザ光透過率レーザ耐性共に優れる。

請求項（抜粋）：

照射総量として1×106 mJ/cm2 のレーザ光を照射された後の、波長157nmのF2 エキシマレーザ光に対する透過率劣化量が1%/cm以下であることを特徴とするフッ素添加石英ガラス。

IPC (2件)：

C03C 3/06 ,  G02B 1/00

FI (2件)：

C03C 3/06 ,  G02B 1/00

Fターム (6件)：

4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC06 ,  4G062GE03 ,  4G062MM27 ,  4G062NN16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• F2エキシマレーザー光学部材用石英ガラス材料及び光学部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-371654   出願人：信越石英株式会社, 株式会社半導体先端テクノロジーズ
• 紫外光用光学ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-202126   出願人：住友電気工業株式会社
• 遠紫外線用高純度シリカガラス及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-078141   出願人：信越石英株式会社
• 合成石英ガラスおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-307783   出願人：旭硝子株式会社