塗布膜形成装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-279547
公開番号（公開出願番号）：特開2003-080144
出願日： 2001年09月14日
公開日（公表日）： 2003年03月18日
要約：

【要約】【課題】基板に対して薬液を供給し、該薬液の液膜を形成する装置において、基板表面へのパーティクルの付着を抑えると共に基板表面に形成される塗布膜の歩留まりを向上させること。【解決手段】左右方向に移動可能なノズル部と、前後方向に移動可能な基板保持部により保持される基板との間にスリットを有するプレートを設け、スリットの左右端にはスリット外方に供給される塗布液からミストが発生することを抑える衝撃緩和部を備えると共に、その表面にて受け止めた塗布液を洗い流すことが可能な一対のシャッタを設ける。またスリット近傍位置には前記ノズル部の移動領域に対応する範囲に亘って吸引口が設けられており、ノズル部のスキャン塗布時に生じるミストを吸引するように構成される。またプレートには下降流をスリット外方に分散させるためのスリットが設けられる。

請求項（抜粋）：

基板を水平保持する基板保持部と、この基板保持部を前後方向に移動させる第1の駆動部と、前記基板保持部に保持された基板と対向して設けられ、該基板に塗布液を吐出するノズル部と、このノズル部を左右方向に移動させる第2の駆動部と、基板の被塗布領域における左右方向の幅に対応して開口するスリットを有し、前記ノズル部と基板との間に設けられるプレートと、このプレートよりも上側且つ前記スリット近傍に設けられる吸引口を介し、該スリット幅と対応する範囲に亘って浮遊物の吸引を行う吸引機構と、を備え、ノズル部を左右方向に移動させ、スリットを介して基板上に塗布液を直線状に塗布した後、この直線状の塗布領域が前後方向に隙間なく並べられるように基板を間欠移動させて塗布膜を形成することを特徴とする塗布膜形成装置。

IPC (5件)：

B05C 5/00 101 , B05C 11/00 , B05C 11/10 , G03F 7/16 501 , H01L 21/027

FI (5件)：

B05C 5/00 101 , B05C 11/00 , B05C 11/10 , G03F 7/16 501 , H01L 21/30 564 Z

Fターム (29件)：

2H025AA00 , 2H025AA18 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025EA04 , 4F041AA05 , 4F041AB01 , 4F041BA21 , 4F041BA31 , 4F041BA59 , 4F042AA06 , 4F042AB00 , 4F042BA08 , 4F042CB02 , 4F042CB07 , 4F042CB24 , 4F042CB25 , 4F042CC07 , 4F042CC28 , 4F042DD38 , 4F042DE03 , 4F042DE09 , 4F042DF01 , 4F042DF26 , 4F042ED05 , 4F042ED12 , 5F046JA01 , 5F046JA20

引用特許：

審査官引用 (6件)

回転式基板塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-212635 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
半導体ウェーハ移送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-279701 出願人：イーティーシステムエンジニアリング株式会社
膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-382459 出願人：東京エレクトロン株式会社

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