特許
J-GLOBAL ID:200903056539087780
半導体レーザ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柳田 征史 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-305673
公開番号(公開出願番号):特開平8-274407
出願日: 1995年11月24日
公開日(公表日): 1996年10月18日
要約:
【要約】【課題】 良質の結晶が再現性良く得られ、高出力発振下においても信頼性の高い、発振波長帯0.63〜1.1 μmの半導体レーザを得る。【解決手段】 活性層5をInGaAsP系の化合物半導体から形成し、この活性層5を挟む光導波層4、6を、V族元素の中でのAsの含有量が2%以上であるInGaAsP系の4元の化合物半導体、あるいはV族元素の中でのAsの含有量が2〜10%であるInGaAlAsP系の5元の化合物半導体から形成し、クラッド層3、7を、V族元素の中でのAsの含有量が2〜10%である、InGaAsP系の4元あるいはInGaAlAsP系の5元の化合物半導体から形成する。
請求項(抜粋):
活性層がInGaAsP系の化合物半導体からなり、この活性層を挟む光導波層が、V族元素の中でのAsの含有量が2%以上であるInGaAsP系の4元の化合物半導体、あるいはV族元素の中でのAsの含有量が2〜10%であるInGaAlAsP系の5元の化合物半導体からなり、クラッド層が、V族元素の中でのAsの含有量が2〜10%である、InGaAsP系の4元あるいはInGaAlAsP系の5元の化合物半導体からなることを特徴とする半導体レーザ。
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
歪量子井戸半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-070598
出願人:株式会社日立製作所, 日立電線株式会社
-
半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-225545
出願人:沖電気工業株式会社
-
面発光型半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-294301
出願人:日本電信電話株式会社
-
特開昭63-152193
-
特開昭63-197391
-
半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-122379
出願人:富士写真フイルム株式会社
全件表示
前のページに戻る