特許
J-GLOBAL ID:200903056583976141

高分子化合物およびその製造方法と使用法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石井 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-086128
公開番号(公開出願番号):特開2002-284862
出願日: 2001年03月23日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】【課題】 新規な電子受容性の高分子化合物と、その製造方法および使用法を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。【化17】[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]
請求項(抜粋):
下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。【化1】[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]
IPC (3件):
C08G 61/12 ,  H01M 4/60 ,  H05B 33/14
FI (3件):
C08G 61/12 ,  H01M 4/60 ,  H05B 33/14 B
Fターム (16件):
3K007AB18 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4J032BA09 ,  4J032BA12 ,  4J032BB01 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01 ,  4J032CG03 ,  5H050BA15 ,  5H050CB22 ,  5H050CB25 ,  5H050CB26 ,  5H050HA11
引用特許:
審査官引用 (16件)
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