特許
J-GLOBAL ID:200903056583976141
高分子化合物およびその製造方法と使用法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
石井 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-086128
公開番号(公開出願番号):特開2002-284862
出願日: 2001年03月23日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】【課題】 新規な電子受容性の高分子化合物と、その製造方法および使用法を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。【化17】[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]
請求項(抜粋):
下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。【化1】[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]
IPC (3件):
C08G 61/12
, H01M 4/60
, H05B 33/14
FI (3件):
C08G 61/12
, H01M 4/60
, H05B 33/14 B
Fターム (16件):
3K007AB18
, 3K007DA00
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4J032BA09
, 4J032BA12
, 4J032BB01
, 4J032BC03
, 4J032CG01
, 4J032CG03
, 5H050BA15
, 5H050CB22
, 5H050CB25
, 5H050CB26
, 5H050HA11
引用特許:
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