特許
J-GLOBAL ID:201003066187107463

高分子化合物およびその製造方法と使用法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  三上 敬史 ,  石坂 泰紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-135344
公開番号(公開出願番号):特開2010-248522
出願日: 2010年06月14日
公開日(公表日): 2010年11月04日
要約:
【課題】 新規な電子受容性の高分子化合物と、その製造方法および使用法を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。
IPC (2件):
C08G 61/12 ,  H01M 4/60
FI (2件):
C08G61/12 ,  H01M4/60
Fターム (11件):
4J032BA07 ,  4J032BA12 ,  4J032BB01 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01 ,  4J032CG03 ,  5H050BA15 ,  5H050CA20 ,  5H050CB20 ,  5H050HA02 ,  5H050HA11
引用特許:
審査官引用 (16件)
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