特許
J-GLOBAL ID：200903056635945983
プラズマ侵入及びアーキングを減少させた静電チャックを準備するための方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 山田 行一
, 池田 成人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-198466
公開番号（公開出願番号）：特開2009-065133
出願日： 2008年07月31日
公開日（公表日）： 2009年03月26日
要約：
【課題】熱移送流体通路内のプラズマ形成及びアーキングを減少させる静電チャックのための流体分配要素を準備するための方法及び装置を提供する。【解決手段】一実施形態は、プレート440と、上記プレート440へ挿入される誘電体コンポーネント442とを備える。上記プレートは、プレナム336を画成するためにチャネル内に配置されるように適応され、上記誘電体コンポーネント442は、上記プレナム336に結合される流体通路の少なくとも一部分を与える。上記誘電体コンポーネント442上に形成される多孔性誘電体層は、上記プレナム336に結合される流体通路の少なくとも別の部分を与える。他の実施形態では、流体分配要素は、基板のための支持表面からプレナム336への視線路を与えないような流体通路を画成するための種々なコンポーネントの配置を備える。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
静電チャックの少なくとも一部分を再生するための方法において、
上記静電チャックの流体分配要素から第1の誘電体コンポーネントを取り外すステップと、
上記第1の誘電体コンポーネントを第2の誘電体コンポーネントと置き換えるステップと、
を備えた方法。
IPC (4件)：
H01L 21/306
, H01L 21/205
, H01L 21/683
, C23C 16/458
H01L21/302 101G
, H01L21/205
, H01L21/68 R
, C23C16/458
4K030CA04
, 4K030FA04
, 4K030GA02
, 4K030KA46
, 5F004AA01
, 5F004BA04
, 5F004BB18
, 5F004BB22
, 5F004BD04
, 5F031CA02
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA17
, 5F031HA18
, 5F031MA28
, 5F031PA06
, 5F045AA08
, 5F045AC01
, 5F045AC11
, 5F045AC16
, 5F045AC17
, 5F045AF01
, 5F045BB01
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045EM05
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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