特許
J-GLOBAL ID：200903056699739538
レーザ処理容器及びレーザ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-004727
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199826
出願日： 1997年01月14日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】レーザアニール処理を行う試料の温度の安定化及び均一化を図ることができるレーザ処理容器を提供する。【解決手段】処理容器13には、移動ステージ14の移動領域上方に複数の反射板33が備えられている。反射板33は、積層されるとともに、レーザビームLが導入されるウインド15を、その移動ステージ14の移動方向に沿って挟むように設けられている。移動ステージ14にはヒータ30が内蔵され、そのヒータ30により上面に載置固定されたガラス基板3を加熱する。更に、移動ステージ14が移動領域を移動中に、ヒータ30から放射される熱は、その移動領域上方に設けられた反射板33により反射されて移動ステージ14上に固定されたガラス基板3に加わるり、ガラス基板3は、ヒータ30から直接加わる熱と、反射板33により反射された熱とにより両面から加熱される。
請求項（抜粋）：
表面に膜が形成された試料をステージ上に載置し、前記試料表面に外部から上部に設けられた照射窓を介してレーザ光を照射して前記試料表面に形成された膜を処理するためのレーザ処理容器であって、前記ステージに設けられ、該ステージ上に載置された前記試料を裏面から加熱するた第1の加熱源と、前記試料の表面と対向する容器内面に設けられ、前記試料を表面から加熱する第2の加熱源とを備えたレーザ処理容器。
IPC (3件)：
H01L 21/268
, H01L 21/20
, H01S 3/00
H01L 21/268 J
, H01L 21/268 G
, H01L 21/20
, H01S 3/00 Z
