特許
J-GLOBAL ID：200903056711211285

マイクロ波処理装置

発明者：
大森 義治

大森 義治 について

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信江 等隆

信江 等隆 について

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安井 健治

安井 健治 について

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三原 誠

三原 誠 について


出願人/特許権者：
パナソニック株式会社

パナソニック株式会社 について


代理人 (3件)： 岩橋 文雄 ,  内藤 浩樹 ,  永野 大介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-017753
公開番号（公開出願番号）：特開2009-181728
出願日： 2008年01月29日
公開日（公表日）： 2009年08月13日
要約：
【課題】加熱室内に収納されたさまざまな形状・種類・量の異なる被加熱物を高効率で、加熱むらを抑えた状態に加熱処理すること。【解決手段】被加熱物10を収容する加熱室8にマイクロ波を供給する手段において、周波数が制御できる半導体素子などで構成した発振部1a、1cと、位相を可変する位相可変部3a〜3dと、電力増幅する増幅部4a〜4dと、給電部5a〜5dと、発振周波数と位相量および、電力増幅量を制御する制御部7とを備え、給電部5a〜5dから放射するマイクロ波の励振方向を意図的な方向に変え、その励振方向の制御と関連付けて動作周波数や位相および、電力増幅量の制御を組み合わせて最適な加熱処理が行える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被加熱物を収容する加熱室と、マイクロ波を発生させる発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の出力間の位相を可変する位相可変部と、前記電力分配部または、前記位相可変部の出力を電力増幅する増幅部と、前記増幅部の出力を前記加熱室に供給する給電部とを備え、前記給電部から放射されるマイクロ波の励振方向を任意の方向に設定する手段と、前記給電部間の位相を可変制御する手段とを有するマイクロ波処理装置。
IPC (4件)：
H05B 6/72 ,  H05B 6/70 ,  H05B 6/74 ,  H05B 6/66
FI (5件)：
H05B6/72 D ,  H05B6/70 F ,  H05B6/74 E ,  H05B6/72 A ,  H05B6/66 C
Fターム (17件)：
3K086AA01 ,  3K086AA08 ,  3K086BA05 ,  3K086BA07 ,  3K086CB05 ,  3K086CB06 ,  3K086DA06 ,  3K090AA01 ,  3K090AA02 ,  3K090AB01 ,  3K090AB14 ,  3K090BA03 ,  3K090DA01 ,  3K090DA04 ,  3K090DA14 ,  3K090DA17 ,  3K090DA19
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特開昭52-19342号公報
  • 特開昭56-132793号公報
  • 特開昭56-96486号公報
審査官引用 (13件)
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