真空チャンバ用レーザ加熱装置及び真空プロセス用装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-163698
公開番号（公開出願番号）：特開2008-025027
出願日： 2007年06月21日
公開日（公表日）： 2008年02月07日
要約：

【課題】超高真空雰囲気下で試料を高温に加熱し得るレーザ加熱装置及びそれを備えた真空プロセス用装置の提供。【解決手段】真空チャンバ内に取り付けられた段差のある孔を有する試料ホルダと、該試料ホルダ近傍の真空チャンバ壁に設けられた光透過窓と、真空チャンバ外に配置されたレーザ光源とを有し、前記試料ホルダの孔に落とし込んで保持した試料の背面にレーザ光を直接照射可能な構成としたことを特徴とする真空チャンバ用レーザ加熱装置。真空チャンバと、該真空チャンバに取り付けられた前記真空チャンバ用レーザ加熱装置とを有することを特徴とする真空プロセス用装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内に取り付けられた段差のある孔を有する試料ホルダと、該試料ホルダ近傍の真空チャンバ壁に設けられた光透過窓と、真空チャンバ外に配置されたレーザ光源とを有し、前記試料ホルダの孔に落とし込んで保持した試料の背面にレーザ光を直接照射可能な構成としたことを特徴とする真空チャンバ用レーザ加熱装置。

IPC (2件)：

C23C 14/50 , C23C 14/24

FI (2件)：

C23C14/50 E , C23C14/24 K

Fターム (5件)：

4K029BB09 , 4K029CA03 , 4K029DA01 , 4K029DA08 , 4K029JA01

引用特許：

出願人引用 (5件)

赤外線輻射加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-182750 出願人：株式会社サーモ理工
特許第3268443号公報
真空成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-235377 出願人：新明和工業株式会社

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審査官引用 (5件)

成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-351724 出願人：住友電気工業株式会社
特開昭56-044770
レーザアニール装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-166819 出願人：松下電器産業株式会社

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