特許
J-GLOBAL ID:200903057333636511
電気絶縁層の形成方法及びその利用
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-337259
公開番号(公開出願番号):特開2003-142825
出願日: 2001年11月02日
公開日(公表日): 2003年05月16日
要約:
【要約】【課題】 配線埋め込み性および表面平滑性に優れた電気絶縁層を形成する方法を提供する。【解決手段】 絶縁性重合体と硬化剤とを含有する硬化性組成物を硬化して電気絶縁層を形成する方法であって、表面に導電体回路を有する内層基板に、硬化性組成物のフィルム状又はシート状成形物?@を、加熱及び加圧して、重ね合わせた後、成形物?@を硬化する工程(1)と、当該成形物?@を硬化して得られた硬化膜上に、硬化性組成物のフィルム状又はシート状成形物?Aを、加熱及び加圧して、重ね合わせた後、成形物?Aを硬化させる工程(2)とを経て電気絶縁層を形成する。
請求項(抜粋):
表面に導電体回路を有する内層基板に、硬化性組成物のフィルム状又はシート状成形物?@を、加熱及び加圧して、重ね合わせた後、成形物?@を硬化する工程(1)と、当該成形物?@を硬化して得られた硬化膜上に、硬化性組成物のフィルム状又はシート状成形物?Aを、加熱及び加圧して、重ね合わせた後、成形物?Aを硬化させる工程(2)とを少なくとも有する電気絶縁層の形成方法。
FI (3件):
H05K 3/46 B
, H05K 3/46 T
, H05K 3/46 X
Fターム (18件):
5E346AA32
, 5E346AA38
, 5E346CC02
, 5E346CC09
, 5E346CC10
, 5E346CC12
, 5E346DD02
, 5E346DD32
, 5E346DD33
, 5E346EE02
, 5E346EE05
, 5E346EE08
, 5E346EE38
, 5E346FF04
, 5E346FF15
, 5E346HH25
, 5E346HH26
, 5E346HH40
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)