特許
J-GLOBAL ID：200903057355565952
感光性組成物、方法、硬化物及び液晶表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
古部 次郎
, 千田 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-164740
公開番号（公開出願番号）：特開2009-031778
出願日： 2008年06月24日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：
【課題】液晶ディスプレイ等の液晶表示装置において、スペーサ等を形成する際に好適に用いられる感光性組成物であって、特にフォトリソグラフィー法により高さの異なる硬化物を同一材料で同時に形成する場合に、製造安定性に優れた感光性組成物を提供する。【解決手段】露光量の対数〔logE(mJ/cm2)〕に対して露光部の残膜率〔t(%)〕をプロットした残膜率-露光量曲線における残膜率の60%と90%の点を結ぶ下記式(1)の直線のγ値が15以上、且つ45未満であることを特徴とする感光性組成物。t=γlogE+δ...(1)[ここで、残膜率t(%)は、ネガマスクパターンを介して画像形成したときに以下で表される。残膜率〔t(%)〕={(各露光量でのパターン高さ)/(露光量1000mJ/cm2でのパターン高さ)}×100]【選択図】図5
請求項（抜粋）：
高さの異なる硬化物を同一材料で同時に形成する為に供される感光性組成物であって、露光量の対数〔logE(mJ/cm2)〕に対して露光部の残膜率〔t(%)〕をプロットした残膜率-露光量曲線における残膜率の60%と90%の点を結ぶ下記式(1)の直線のγ値が15以上、且つ45未満であることを特徴とする感光性組成物。
t=γlogE+δ ...(1)
[ここで、残膜率t(%)は、ネガマスクパターンを介して画像形成したときに以下で表される。
残膜率〔t(%)〕={(各露光量でのパターン高さ)/(露光量1000mJ/cm2でのパターン高さ)}×100]
IPC (6件)：
G03F 7/004
, G03F 7/027
, G03F 7/038
, G03F 7/26
, G02F 1/133
, H01L 21/027
G03F7/004
, G03F7/027 515
, G03F7/038 501
, G03F7/26 501
, G02F1/1339 500
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA13
, 2H025AB14
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC43
, 2H025BC53
, 2H025BC74
, 2H025BC82
, 2H025CA02
, 2H025CA28
, 2H025CA31
, 2H025CC04
, 2H025CC17
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H096AA28
, 2H096BA06
, 2H096EA02
, 2H096GA09
, 2H096HA01
, 2H096LA17
, 2H189DA07
, 2H189EA04X
, 2H189EA13X
, 2H189FA16
, 2H189FA25
, 2H189FA91
, 2H189GA05
, 2H189GA13
, 2H189HA04
, 2H189HA12
, 2H189HA14
, 2H189HA15
, 2H189LA05
, 2H189LA10
, 2H189LA14
, 2H189LA15
