特許
J-GLOBAL ID:200903057430987337

光学素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-044293
公開番号(公開出願番号):特開2006-227515
出願日: 2005年02月21日
公開日(公表日): 2006年08月31日
要約:
【課題】 本発明の目的は、より安価で量産性の高い偏光子等の光学素子の製造方法を提供することにある。【解決手段】 本発明は、基板上に複数の金属ワイヤグリッドを備えた光学素子の製造方法であって、前記金属ワイヤグリッドを電解めっき法で作製することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板上に複数の金属ワイヤグリッドを備えた光学素子の製造方法であって、前記金属ワイヤグリッドを電解めっき法で作製することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (2件):
G02B 5/30 ,  G02B 27/28
FI (2件):
G02B5/30 ,  G02B27/28 Z
Fターム (9件):
2H049BA02 ,  2H049BA05 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC08 ,  2H049BC09 ,  2H099BA00 ,  2H099CA17 ,  2H099DA00
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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