特許
J-GLOBAL ID：200903057680656760

マスクの撓み補正装置

発明者：
渡辺 一生

渡辺 一生 について

, 
鈴木 謙作

鈴木 謙作 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (6件)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順 ,  中村 礼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-185286
公開番号（公開出願番号）：特開2006-010860
出願日： 2004年06月23日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】比較的簡単な構成で、特に2軸露光装置に対応可能で、マスクの自重による撓みを容易かつ確実に補正できるマスクの撓み補正装置を提供することを課題とする。【解決手段】本発明のマスクの撓み補正装置は、エッジ領域内の複数の支持部によって2軸駆動ステージ装置の上方に吊り下げられた露光装置のマスクの撓みを補正する装置であって、前記マスクのエッジ領域内において支持部同士の間に設けられ、前記マスクの上面側を下側に向けて押圧する押圧手段と、前記2軸駆動ステージ装置のステージの駆動ストロークによって確定される領域よりも外側に配設され、前記押圧手段を保持する保持手段と、前記押圧手段を前記マスクの押圧部に当接させた時点における前記マスクの撓み量を計測すると共に、この撓み量を補正するために、前記押圧手段を駆動制御する駆動手段とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
エッジ領域内の複数の支持部によって2軸駆動ステージ装置の上方に吊り下げられた露光装置のマスクの撓みを補正する装置であって、 前記マスクのエッジ領域内において支持部同士の間に設けられ、前記マスクの上面側を下側に向けて押圧する押圧手段と、 前記2軸駆動ステージ装置のステージの駆動ストロークによって確定される領域よりも外側に配設され、前記押圧手段を保持する保持手段と、 前記押圧手段を前記マスクの押圧部に当接させた時点における前記マスクの撓み量を計測すると共に、この撓み量を補正するために、前記押圧手段を駆動制御する駆動手段と を備えることを特徴とするマスクの撓み補正装置。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ,  G03F 1/14
FI (2件)：
G03F7/20 501 ,  G03F1/14 A
Fターム (4件)：
2H095BA03 ,  2H095BA12 ,  2H097GA45 ,  2H097LA12
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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