特許

J-GLOBAL ID：200903057906937228

フェノール/脂環式コポリマーおよびフォトレジスト

発明者： ジョージ・ジー・バークレー ,  アシシュ・パンディア ,  ワン・ユイー ,  アンソニー・ザンピニ ,  ゲーリー・ゲンフュイ・テン ,  ジビアオ・マオ
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-309755
公開番号（公開出願番号）：特開2001-194792
出願日： 2000年10月10日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 化学増幅ポジ型レジストの成分として有用な新規なポリマーの提供。【解決手段】 光活性な成分、ならびに1)少なくとも約125立方オングストロームの分子容を有する第三エステル脂環式基を含み、全ポリマー単位に基づいて約1から50モル%の量で存在するフォト酸レイビルエステル基;および2)全ポリマー単位に基づいて約20から95モル%の量で存在するフェノール基の繰り返し単位を含むポリマーを含む樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

光活性な成分、ならびに1)少なくとも約125立方オングストロームの分子容を有する第三エステル脂環式基を含み、全ポリマー単位に基づいて約1から50モル%の量で存在するフォト酸レイビルエステル基;および2)全ポリマー単位に基づいて約20から95モル%の量で存在するフェノール基の繰り返し単位を含むポリマーを含む樹脂バインダー、を含むフォトレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/08 ,  C08L 33/10 ,  C08L101/08 ,  C07C 69/54

FI (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/08 ,  C08L 33/10 ,  C08L101/08 ,  C07C 69/54 B

引用特許：

審査官引用 (6件)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050264   出願人：富士通株式会社
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-084729   出願人：日本ゼオン株式会社
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-301558   出願人：日本ゼオン株式会社
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-261054   出願人：日本ゼオン株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-242053   出願人：富士通株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-154908   出願人：東京応化工業株式会社