特許
J-GLOBAL ID：200903058064109786
描画装置及びこの描画装置を用いた描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-167409
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012902
出願日： 2002年06月07日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】簡単な工程で2次元から3次元を含む描画を可能にすると共に、高精度のパターン形成が可能な描画装置及びこの描画装置を用いた描画方法を得る。【解決手段】描画装置10には、同一の走査ステージ12に露光ヘッド20及び導電体吐出ヘッド22、絶縁体吐出ヘッド24を配設しており、走査ステージ12上のプリント基板14に、同一の走査ステージ12上でパターンを形成させることができる。これにより、各ヘッド毎に走査ステージを有する場合と比較して、工程を簡略化することができると共に、パタニング間の時間を短縮することができ、パターン形成の高速化を実現することができる。また、プリント基板14に対する露光ヘッド20及び吐出ヘッド22、24の位置ズレが生じないため、パターンの高密度化が容易であり、高精度のパターンが形成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被描画媒体に対して少なくとも1方向に相対移動し前記被描画媒体を露光する少なくとも一つの露光ヘッドと、
前記露光ヘッドと同一の相対移動ラインに沿って設けられ、被描画媒体に対して少なくとも1方向に相対移動して、機能性材料を吐出する少なくとも一つの吐出ヘッドと、
を有することを特徴とする描画装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
2H097AA03
, 2H097CA17
, 2H097LA09
