特許
J-GLOBAL ID：200903058070396630

基板洗浄用水の製造装置及び製造方法、それらにより製造された基板洗浄用水、並びに該基板洗浄用水を用いた基板の洗浄方法

発明者：
北田 淳

北田 淳 について

, 
河野 直

河野 直 について


出願人/特許権者：
株式会社タキオテック

株式会社タキオテック について


代理人 (1件)： 清水 初志 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-336074
公開番号（公開出願番号）：特開2002-224674
出願日： 1996年10月21日
公開日（公表日）： 2002年08月13日
要約：
【要約】【課題】 低コストで容易かつ無害に半導体基板などを洗浄し得る電解イオン水を製造することができる電解イオン水の製造装置を提供する。【解決手段】 電解槽1に満たされた電解質水溶液2を、多孔性中性膜からなり水が自由に流通できる隔膜6により、陽極電解液2aと陰極電解液2bとに分ける。そして、使用する電極のうち特に陰極電極5に適正な穴(直径が2〜4mmで、穴の面積の合計が電極板の面積に対して5〜55%の有効な開口面積とする)を設けることにより、電解液が電極表裏間を自由に移動し得るようになり、陽極電極4および陰極電極5において飽和濃度まで溶解した電解液が容易に低濃度の溶解した液と交換され、電解液中へのガス溶解およびイオン発生が効率よく行われ、その結果、負極還元水が陰極側で得られる。
請求項（抜粋）：
電解槽と、該電解槽に貯留された電解質水溶液と、該電解質水溶液に挿入された電極と、前記電解質水溶液を陽極側と陰極側とに隔離する多孔性の隔膜と、を備え、前記電極に電流を通じることにより電解イオン水を製造する装置であって、前記電極の内、少なくとも陰極に貫通穴が開口していることを特徴とする基板洗浄用水の製造装置。
IPC (6件)：
C02F 1/46 ,  B08B 3/08 ,  C25B 1/06 ,  C25B 9/00 ,  C25B 9/08 ,  C25B 11/03
FI (6件)：
C02F 1/46 A ,  B08B 3/08 Z ,  C25B 1/06 ,  C25B 11/03 ,  C25B 9/00 A ,  C25B 9/00 L
Fターム (31件)：
3B201AA03 ,  3B201BB22 ,  3B201BB82 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  4D061DA01 ,  4D061DB07 ,  4D061DB08 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB12 ,  4D061EB20 ,  4D061EB30 ,  4D061ED12 ,  4K011AA06 ,  4K011AA11 ,  4K011AA21 ,  4K011AA31 ,  4K011BA07 ,  4K011CA04 ,  4K011DA01 ,  4K021AA01 ,  4K021AA09 ,  4K021AB25 ,  4K021BA02 ,  4K021DA03 ,  4K021DB12 ,  4K021DB28 ,  4K021DC15
引用特許：
審査官引用 (9件)
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