特許

J-GLOBAL ID：200903058217663737

高速なモデルに基づく光学的近接効果補正

発明者： アラン・イー・ローゼンブルース ,  グレッグ・エム・ギャラティン ,  ロナルド・エル・ゴードン ,  ナクコン・ソン ,  アレクセイ・ワイ・ルヴォフ ,  ウィリアム・ディー・ヒンズバーグ ,  ジョン・エイ・ホーフナグル ,  フランシス・エイ・ハウル ,  マーサ・アイ・サンチェス
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
代理人 (3件)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-039330
公開番号（公開出願番号）：特開2005-234571
出願日： 2005年02月16日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】高速で高性能な投影光学系シミュレーション方法とシステムを提供する。【解決手段】マスク透過関数とは独立した一般化した双1次カーネルを形成することによってこれらの影響を含め、次いで、分解を利用してこのカーネルを処理することによって、非スカラー効果を含む像を計算する。この一般化した双1次カーネルの支配的な固有関数を用いて、可能なポリゴン・セクタとのコンボリューションをあらかじめ計算し得る。次いで、マスク透過関数をポリゴン・セクタに分解し、適切なマスク・ポリゴン・セクタについてのあらかじめ計算したコンボリューションのコヒーレント和から重み付けした初期像を形成し得る。一般化した双1次カーネルの支配的な固有関数のすべてにわたる重み付けした初期像のインコヒーレント和から、ある点における像を形成し得る。その後、得られた像を用いて、MBOPC(モデルに基づく光学的近接効果補正)を実施し得る。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

照明光源および投影レンズを有する投影系を含む手段によって形成される像を求める方法であって、前記照明光源と前記投影レンズの間にマスクが配設され、 光源強度分布を準備するステップと、 前記投影レンズのインパルス応答を含む投影インパルス応答を準備するステップと、 前記光源強度分布と前記投影インパルス応答との自己相関を含む一般化した双1次カーネルを形成するステップとを含む、方法。

IPC (1件)：

G03F1/08

FI (1件)：

G03F1/08 A

Fターム (2件)：

2H095BA01 ,  2H095BB01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許出願第10/694,473号
  
• 米国特許出願第10/694,466号
  

審査官引用 (6件)

• 高速空中像シミュレーションのための方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-274061   出願人：アスムルマスクツールズネザーランズビー.ブイ.
• 照明を最適化する方法および投影結像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-128796   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 微細パターン形成時の露光方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-328836   出願人：現代電子産業株式会社
• レジスト形状計算方法及びレジスト形状計算システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-047026   出願人：日本電気株式会社
• パターンの光強度計算方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-022323   出願人：日本電気株式会社
• 結像シミュレーション法及びそれを用いた結像シミュレーション装置及び記憶媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-396780   出願人：オリンパス光学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

• Improved modeling performance with an adapted vectorial formulation of the Hopkins imaging equation
• Simulation of imaging and stray light effects in immersion lithography